[实用新型]研磨治具有效
| 申请号： | 201320797436.9 | 申请日： | 2013-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN203738565U | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 洪岳旭 | 申请（专利权）人： | 洪岳旭 |
| 主分类号： | B24B37/27 | 分类号： | B24B37/27 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 关畅;王燕秋 |
| 地址： | 中国台湾*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小的承置空间的置放座，并在所述基材的另一侧设置一层用于贴设一底座的胶；所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述承置空间内部的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具反向组设于机台上进行抛光处理。由此，本实用新型可以避免待研磨物在进行抛光处理时不慎发生脱落的问题，并可提升待研磨物的抛光合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 | ||
【主权项】：
一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小的承置空间的置放座，并在所述基材的另一侧设置一层用于贴设一底座的胶；所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述承置空间内部的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
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