[实用新型]一种蒸镀装置有效
| 申请号： | 201320802641.X | 申请日： | 2013-12-06 |
| 公开（公告）号： | CN203582959U | 公开（公告）日： | 2014-05-07 |
| 发明（设计）人： | 赵德江;张家奇 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型实施例提供了一种蒸镀装置，涉及显示技术领域；可改善蒸镀源加热和降温过程中，蒸发出来的材料沉积到腔体内部引起腔体污染的问题。该蒸镀装置，包括腔体，设置在所述腔体内的蒸镀源、待镀基板以及蒸镀遮挡装置，所述蒸镀遮挡装置包括：中空的遮挡主体和与所述遮挡主体匹配且固定的遮挡盖；所述遮挡盖设置在所述遮挡主体靠近所述待镀基板的上表面；所述遮挡主体的中空部分的截面面积大于等于所述蒸镀源的面积；在所述蒸镀源的温度达到预蒸镀温度之前、以及蒸镀完成后所述蒸镀源的降温过程中，所述蒸镀遮挡装置设置在所述蒸镀源与所述待镀基板之间，且靠近所述蒸镀源设置。用于需要蒸镀沉积薄膜的显示技术领域中，所述蒸镀装置的制造。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 装置 | ||
【主权项】：
一种蒸镀装置，包括腔体，设置在所述腔体内的蒸镀源和待镀基板，其特征在于，所述蒸镀装置还包括设置在所述腔体内的蒸镀遮挡装置，所述蒸镀遮挡装置包括：中空的遮挡主体和与所述遮挡主体匹配且固定的遮挡盖；其中，所述遮挡盖设置在所述遮挡主体靠近所述待镀基板的上表面；所述遮挡主体的中空部分的截面面积大于等于所述蒸镀源的面积；在所述蒸镀源的温度达到预蒸镀温度之前、以及蒸镀完成后所述蒸镀源的降温过程中，所述蒸镀遮挡装置设置在所述蒸镀源与所述待镀基板之间，且靠近所述蒸镀源设置。
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