[实用新型]气体喷嘴装置有效
| 申请号： | 201320804019.2 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN203620819U | 公开（公告）日： | 2014-06-04 |
| 发明（设计）人： | 王新鹏;陈勇;卜伟海;康劲 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B05B1/30 | 分类号： | B05B1/30;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种气体喷嘴装置，用于提供刻蚀气体，包括喷嘴圆盘，所述喷嘴圆盘设有多个沟槽，所述喷嘴圆盘包括第一固定层、第二固定层和活动层，所述活动层位于所述第一固定层和第二固定层之间。在喷嘴圆盘中添加活动层，所述活动层能够活动，通过调节所述活动层可以控制气体通孔的尺寸大小，从而可以控制通过的刻蚀气体的量，由改善刻蚀气体形成的刻蚀气浆的均匀性的方法达到调节刻蚀工艺均匀性的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 喷嘴 装置 | ||
【主权项】：
一种气体喷嘴装置，用于提供刻蚀气体，其特征在于，所述装置包括喷嘴圆盘，所述喷嘴圆盘设有多个沟槽，所述喷嘴圆盘包括第一固定层、第二固定层和活动层，其中，所述活动层位于所述第一固定层和第二固定层之间。
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