[实用新型]具有电流阻挡效应的发光二极管有效

专利信息
申请号: 201320818565.1 申请日: 2013-12-13
公开(公告)号: CN203631586U 公开(公告)日: 2014-06-04
发明(设计)人: 李珅;李晓波;王义虎;甄珍珍;任继民;孟丽丽 申请(专利权)人: 同辉电子科技股份有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14
代理公司: 石家庄国为知识产权事务所 13120 代理人: 米文智
地址: 050200 河北省石*** 国省代码: 河北;13
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摘要: 实用新型公开了一种具有电流阻挡效应的发光二极管,涉及半导体器件技术领域。包括衬底层;位于衬底层上表面的N型层;位于N型层上表面左侧的发光层,位于N型层上表面右侧的N电极;位于发光层上表面的P型层,所述P型层的上表面设有向下凹陷的P型刻蚀区域,电流扩展层位于P型层的上表面,P电极位于所述P型刻蚀区域内的电流扩展层的上表面。所述发光二极管的P型层上设有向下凹陷的P型刻蚀区域,达到了电流阻挡效应,提高了二极管的发光亮度。
搜索关键词: 具有 电流 阻挡 效应 发光二极管
【主权项】:
一种具有电流阻挡效应的发光二极管,包括衬底层(200);位于衬底层(200)上表面的N型层(201),所述N型层(201)上设有凸台;位于N型层(201)凸台上表面的发光层(202),位于凸台右侧的N型层(201)上表面的N电极(207);位于发光层(202)上表面的P型层(203),其特征在于:所述P型层(203)的上表面设有向下凹陷的P型刻蚀区域(204),电流扩展层(205)位于P型层(203)的上表面,P电极(206)位于所述P型刻蚀区域(204)内的电流扩展层(205)的上表面。
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