[实用新型]一种化学机械研磨垫

摘要

本实用新型提供一种化学机械研磨垫，所述化学机械研磨垫至少包括：研磨垫本体和位于所述研磨垫本体上的若干沟槽，所述沟槽截面为若干以研磨垫本体的旋转中心为圆心的同心圆环，所述沟槽横截面为设有倒角的U型沟槽。分布于研磨垫中间区域的沟槽的宽度d₁小于研磨垫边缘区域的沟槽的宽度d₂；所述研磨垫中间区域的沟槽之间的间距d₃大于设于研磨垫边缘区域的沟槽之间的间距d₄。本实用新型将沟槽设计为有倒角的U型，可以提高研磨的速率和研磨的质量；设计宽度不一样的沟槽，并将其非均匀地分布，即可以提高边缘的研磨性能，保证整个晶圆研磨的均匀性，又能保留住更多的研磨液使其不被浪费，提高了研磨液的利用率，降低了研磨成本。

主权项

一种化学机械研磨垫，其特征在于，所述化学机械研磨垫至少包括：具有一个旋转中心的研磨垫本体，其由底层和表层两层构成；设于所述表层内的、用于分布抛光液的若干沟槽，所述沟槽的截面为若干以研磨垫本体的旋转中心为圆心的同心圆环，所述沟槽的横截面为设有倒角的U型沟槽。