[实用新型]一种电解铜箔设备精密配液装置有效
| 申请号： | 201320824513.5 | 申请日： | 2013-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN203602747U | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 赵宁昌;阮跃进;寇博泰 | 申请（专利权）人： | 华纳国际（铜陵）电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/12 | 分类号： | C25D21/12;C25D7/06 |
| 代理公司： | 铜陵市天成专利事务所 34105 | 代理人： | 莫祚平 |
| 地址： | 244000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种电解铜箔设备精密配液装置，包括配液箱（1）、连接支管（2）和分液缸（5），所述的连接支管（2）至少有2根，每根连接支管的两端分别与配液箱（1）和分液缸（5）管连通，每根连接支管（2）上均设有流量计（3）和流量调节阀（4），所述的配液箱（1）包括盖板（11）、导流板（12）、内隔板（13）、中隔板（14）和底板（15），所述分液缸（5）包括外筒体（51）、内筒体（52）和端盖。采用了这种结构后，本实用新型中的配液装置具有结构紧凑合理、液体流量可精密均匀调节、能耗低等特点，能保证8-70微米铜箔生产对克重均匀度不超过3克的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电解 铜箔 设备 精密 装置 | ||
【主权项】：
一种电解铜箔设备精密配液装置，其特征在于包括配液箱（1）、连接支管（2）和分液缸（5），所述的连接支管（2）至少有2根，每根连接支管的两端分别与配液箱（1）和分液缸（5）管连通，每根连接支管（2）上均设有流量计（3）和流量调节阀（4）。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华纳国际（铜陵）电子材料有限公司，未经华纳国际（铜陵）电子材料有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201320824513.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：氧化铝单晶生长炉的铜环结构
- 下一篇：一种铝电解槽燃气焙烧装置
