[实用新型]基于双光束相向照射的干涉粒子成像测量装置

摘要

本实用新型公开了一种基于双光束照射的干涉粒子成像测量装置，包括片状光束相向照射系统和接收成像系统，片状光束相向照射系统由激光器、扩束准直系统、光束压缩系统、分束镜和反射镜组组成。接收成像系统包括聚焦成像系统和离焦成像系统。分束镜将粒子散射光分成两部分，聚焦成像系统由CCD和成像透镜组成，离焦成像系统由成像透镜和CCD组成,采集到的图像存储于计算机中。在聚焦成像系统和离焦成像系统中，物平面、透镜平面和CCD像面相互平行。本实用新型通过粒子散射光的条纹图和聚焦像，得到粒子尺寸大小，结合PTV/PIV技术，得到粒子场速度分布，可用于喷雾粒子场粒子尺寸、速度测量以及气缸内空气速度场测量。

主权项

一种基于双光束照射的干涉粒子成像测量装置，包括片状光束相向照射系统和接收成像系统，其特征在于，所述片状光束相向照射系统由激光器（1）、扩束准直系统（2）、光束压缩系统（3）、第一分束镜（41）和反射镜组（51、52、53）组成；所述接收成像系统包括聚焦成像系统和离焦成像系统；第二分束镜（42）将粒子散射光分成两部分，聚焦成像系统由第一CCD（71）和第一成像透镜（61）组成，离焦成像系统由第二成像透镜（62）和第二CCD（72）组成，采集到的图像存储于计算机（9）中；在聚焦成像系统和离焦成像系统中，物平面、透镜平面和CCD像面相互平行。