[实用新型]一种新型低辐射玻璃

摘要

本实用新型公开了一种新型低辐射玻璃,其特征在于：包括玻璃基板，在所述玻璃基板上磁控溅射有TiO₂介质层，在所述TiO₂介质层上磁控溅射有CrNx阻挡层，在所述CrNx阻挡层上磁控溅射有AZO平整层，在所述AZO平整层上磁控溅射有Ag功能层，在所述Ag功能层上磁控溅射有(NiCr)xOy层，在所述(NiCr)xOy层上磁控溅射有SnO₂保护层，在所述SnO₂保护层上磁控溅射有C层。本实用新型的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种结构简单，生产成本相对较低的新型低辐射玻璃。

主权项

一种新型低辐射玻璃,其特征在于：包括玻璃基板(1)，在所述玻璃基板(1)上磁控溅射有TiO₂介质层(2)，在所述TiO₂介质层(2)上磁控溅射有CrNx阻挡层(3)，在所述CrNx阻挡层(3)上磁控溅射有AZO平整层(4)，在所述AZO平整层(4)上磁控溅射有Ag功能层(5)，在所述Ag功能层(5)上磁控溅射有(NiCr)xOy层(6)，在所述(NiCr)xOy层(6)上磁控溅射有SnO₂保护层(7)，在所述SnO₂保护层(7)上磁控溅射有C层(8)，所述TiO₂介质层的厚度为10～30nm，所述CrNx阻挡层的厚度为0.5～2nm，所述AZO平整层的厚度为5～20nm，所述Ag功能层的厚度为7～10nm，所述(NiCr)xOy层的厚度为0.5～5nm，所述SnO₂保护层的厚度为20～50nm，所述C层的厚度为10～20nm。