[实用新型]类金刚石膜涂层设备

摘要

本实用新型涉及一种类金刚石膜的涂层设备，包括涂层室、行星旋转工件架、磁过滤弧源、分子泵、真空系统，所述涂层室为立式圆柱形，整体双层水冷式结构，涂层室前部设有进料门，涂层室的顶部设有管状加热器、热电偶接口，涂层室的底部设有进气口和行星旋转工件架，涂层室的侧壁安装有磁过滤弧源，涂层室的后部安装有分子泵和真空系统。本实用新型采用磁过滤功能与高真空多弧靶结构，生产质量稳定可靠，可应用于大批量生产，有利于降低生产成本。

主权项

类金刚石膜涂层设备，其特征在于：它包括涂层室、行星旋转工件架、磁过滤弧源、分子泵、真空系统，所述涂层室为立式圆柱形，整体双层水冷式结构，所述涂层室前部设有进料门，所述涂层室的顶部设有管状加热器、热电偶接口，所述涂层室的底部设有进气口和行星旋转工件架，所述行星旋转工件架底部连接有驱动系统，所述涂层室的侧壁安装有磁过滤弧源，所述涂层室的后部安装有分子泵和真空系统。