[实用新型]双通道高能X射线透视成像系统有效
| 申请号： | 201320879291.7 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN203772764U | 公开（公告）日： | 2014-08-13 |
| 发明（设计）人： | 唐华平;陈志强;唐传祥;陈怀璧;李元景;赵自然;刘耀红;孙尚民;阎忻水;秦占峰 | 申请（专利权）人： | 同方威视技术股份有限公司;清华大学 |
| 主分类号： | G01N23/04 | 分类号： | G01N23/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 江鹏飞;汪扬 |
| 地址： | 100084 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型通过电子加速器、屏蔽准直装置、第一探测器阵列、第二探测器阵列、各种机械组合结构的设计，利用仅一台电子加速器、两组X射线束流和两组探测器系统，同时对两个通道内的受检查对象进行透视成像。根据本实用新型的双通道高能X射线透视成像系统可以设计为固定式、组合式、轨道移动式或车载移动式等具体形势，具有结构简单、成本低、功能强、图像质量好等优点。 | ||
| 搜索关键词： | 双通道 高能 射线 透视 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种双通道高能X射线透视成像系统,包括：单台高能电子加速器、屏蔽准直装置、第一检查通道、第二检查通道、第一探测器阵列、第二探测器阵列、电源与控制子系统、信号分析与图像处理子系统；其中，高能电子加速器包括电子发射单元、电子加速单元、靶，产生的电子束流具有2MeV以上的能量；屏蔽准直装置包括屏蔽结构和至少两个准直器；两个准直器分别设置在电子束流的轴线的两侧；所述第一检查通道和第二检查通道分别位于电子加速器的两侧；第一准直器、第一探测器阵列与电子束流打靶的靶点处于第一平面内，第二准直器、第二探测器阵列与电子束流打靶的靶点处于第二平面内。
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