[实用新型]一种可以提高直拉法单晶生长速度的冷却装置有效
申请号: | 201320883231.2 | 申请日: | 2013-12-30 |
公开(公告)号: | CN203668549U | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 黄小卫;吴亮;孟召标;刘辉;伍耀川;陈龙 | 申请(专利权)人: | 上海涌真机械有限公司;苏州协鑫工业应用研究院有限公司 |
主分类号: | C30B15/00 | 分类号: | C30B15/00;C30B29/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 201800 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种可以提高单晶生长速度的冷却装置。该装置为有锥度的筒状组合部件,由三层组成,最外层为低发射率的钼筒,中间层为内部通冷却介质的绕制铜管,铜管穿出炉外后,连接炉台冷却介质管路,最内层为铜筒。铜筒和绕制铜管之间充分焊接接触。铜筒的下端内径大于或等于导流筒的下端内径。该装置结构设计合理,铜管按照一定锥度绕制后,穿出炉外,杜绝了冷却介质在炉内泄漏的可能。导流筒可以避免熔体飞溅到冷却装置。在直拉法单晶炉热场中采用该装置,可以强化生长界面附近的晶体冷却效果,增大晶体的纵向温度梯度,从而大幅提高晶体的生长速度。达到快速生长晶体,降低晶体加工成本的目的。 | ||
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【主权项】:
一种可以提高直拉法单晶生长速度的冷却装置,其安装于单晶炉内,其特征在于,该冷却装置由具有锥度的三层部件组合而成,最外层为钼筒(4),中间层为内部通冷却介质的绕制铜管(3),最内层为铜筒(2)。
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