[实用新型]小间距盾构隧道隔离结构有效

专利信息
申请号: 201320888331.4 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN203795462U 公开(公告)日: 2014-08-27
发明(设计)人: 肖明清;焦齐柱;薛光桥;邓朝辉;孙文昊;王春梅 申请(专利权)人: 中铁第四勘察设计院集团有限公司
主分类号: E02D29/02 分类号: E02D29/02;E21D9/14
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 黄行军;艾小倩
地址: 430063 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 实用新型公开了一种小间距盾构隧道隔离结构,其特征在于:在相邻盾构隧道之间设立隔离结构,所述隔离结构为深至盾构隧道底部以下的隔离段;所述隔离段为地下连续墙、钻孔桩或工法桩。隔离段可以视地质条件、盾构隧道直径、隧道之间的净距等,选用地下连续墙、钻孔桩或工法桩。本实用新型适用于两孔小间距盾构隧道掘进时,本实用新型在两孔隧道之间设置的隔离结构,可以将两孔隧道之间的净距控制在约2m左右,完全避免发生截桩、拆迁或者建筑加固处理等工程措施,大大降低工程造价和节约地下空间资源,具有较高的经济、技术效益和较好的推广应用前景。
搜索关键词: 间距 盾构 隧道 隔离 结构
【主权项】:
一种小间距盾构隧道隔离结构,其特征在于:在相邻盾构隧道之间设立隔离结构,所述隔离结构为深至盾构隧道底部以下的隔离段(6);所述隔离段(6)为地下连续墙、钻孔桩或工法桩; 所述相邻盾构隧道的先行隧道(3)直径为D1,后行隧道(4)的直径为D2,所述隔离段(6)与先行隧道(3)和后行隧道(4)的距离分别为L1、L2,隔离段(6)与先行隧道(3)和后行隧道(4)的距离之和为L;当D1与D2相等时,所述2m≤L<0.6D1,当D1与D2不相等时,取D1和D2中较小者为D,所述所述2m≤L<0.6D。 
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