[实用新型]用于曝光机的对位晒架有效
| 申请号： | 201320890618.0 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN203689009U | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 李炬;佘瑞峰;肖丽;彭永杰;李辉;王金鹏;李松凌 | 申请（专利权）人： | 四川聚能核技术工程有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 621700 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及曝光机领域，具体而言，涉及用于曝光机的对位晒架。该对位晒架包括底座、底片移动板、上盖和PCB移动板；PCB移动板、底片移动板及上盖从下至上依次设置在底座上；底片移动板上安装有下玻璃，下底片通过真空吸附在下玻璃上面；底片移动板下部安装了三个固定轴，大伺服系统推动固定轴带动下底片移动，使下底片与上盖的上底片对位；PCB移动板设置有三个固定轴，小伺服系统推动该固定轴来驱动PCB板与上底片或下底片对位。该对位晒架具有上下底片对位功能，PCB板与底片对位功能，底片对位精度超差时自动修复，对位精度高，而且还能同时对PCB板的正面和背面曝光，曝光效率高，曝光效果好，生产效率高。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 曝光 对位 | ||
【主权项】：
一种用于曝光机的对位晒架，其特征在于，包括底座、底片移动板、上盖和PCB移动板；所述PCB移动板、底片移动板及所述上盖从下至上依次设置在所述底座上；所述底片移动板上安装有下玻璃，下玻璃上加工有真空吸附槽，下底片通过真空吸附在下玻璃上面；底片移动板下部安装了三个固定轴，大伺服系统推动固定轴带动下底片移动，使下底片与上盖的上底片对位；所述PCB移动板设置有三个固定轴，小伺服系统推动该固定轴来驱动PCB板与上底片或下底片对位。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川聚能核技术工程有限公司，未经四川聚能核技术工程有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201320890618.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种可往复运动的挂钟
- 下一篇：一种彩色立体灯箱胶片
