[实用新型]一种真空上料设备

摘要

一种真空上料设备包括：原料部、储料舱、吸料部、底部舱和控制装置，原料部通过传输管道与储料舱连接，储料舱侧壁设有进料口，储料舱上端与吸料部连通，储料舱底部设有出料口，储料舱下端与底部舱连通，控制装置与原料部、储料舱、吸料部和底部舱连接。本实用新型够有效解决真空输送过程中的分层以及输送效率不均匀问题并且还能降低所相关设备的影响，提高真空输送过程的稳定性。

主权项

一种真空上料设备包括：原料部（100）、储料舱（200）、吸料部（300）、底部舱（400）和控制装置（500），所述原料部（100）通过传输管道（120）与储料舱（200）连接，所述储料舱（200）上端与吸料部（300）连通，所述储料舱（200）下端与底部舱（400）连通，所述控制装置（500）与原料部（100）、储料舱（200）、吸料部（300）和底部舱（400）连接；所述储料舱（200）包括：进料口（210）、物料中间舱（220）和出料口（230），所述进料口（210）设于储料舱（200）侧壁，所述物料中间舱（220）设于储料舱（200）内，所述出料口（230）设于储料舱（200）底端。