[发明专利]投射装置管理系统有效
| 申请号： | 201380001392.7 | 申请日： | 2013-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN103765311A | 公开（公告）日： | 2014-04-30 |
| 发明（设计）人： | 金桓彻;姜睡莲 | 申请（专利权）人： | CJCGV株式会社 |
| 主分类号： | G03B35/20 | 分类号： | G03B35/20;G03B21/14 |
| 代理公司： | 北京冠和权律师事务所 11399 | 代理人： | 朱健 |
| 地址： | 韩国首尔市麻浦*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种投射装置管理系统，其包括：两个以上的投射装置，其向投射面投射影像；管理装置，其根据各个投射装置的信息，对各个投射装置所投射的影像进行修正，并且管理各个投射装置的维护信息，其中，所述两个以上的投射装置安装在同一个放映厅中。 | ||
| 搜索关键词： | 投射 装置 管理 系统 | ||
【主权项】：
一种投射装置管理系统，其包括：两个以上的投射装置，其向投射面投射影像；以及管理装置，其根据各个投射装置的信息，对各个投射装置所投射的影像进行修正，并且管理各个投射装置的维护信息；其中，所述两个以上的投射装置安装在同一个放映厅中。
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