[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201380002694.6 | 申请日： | 2013-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN103732788A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 赤野真也 | 申请（专利权）人： | 中外炉工业株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32;C23C14/54;H05H1/26 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 宋俊寅 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置，即使等离子体与被处理品接近，也能使等离子体与被处理品隔离。本发明的等离子体处理装置1包括腔室（2），该腔室（2）内部具有对被处理品（5）进行保持的保持空间（2a）、以及要形成等离子体的等离子体空间（2b）；向等离子体空间内（2b）放出电子来形成等离子体的等离子体枪（3）；以及在保持空间（2a）与等离子体空间（2b）之间形成横穿腔室（2）的磁通的至少一对位置可调节的对置磁铁（4）。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：腔室，该腔室内部具有对被处理品进行保持的保持空间、以及要形成等离子体的等离子体空间；等离子体枪，该等离子体枪向所述等离子体空间内放出电子来形成等离子体；以及在所述保持空间与所述等离子体空间之间形成横穿所述腔室的磁通的至少一对对置磁铁。
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