[发明专利]一种纳米粒子组装三维结构的制造方法有效

专利信息
申请号: 201380002957.3 申请日: 2013-03-04
公开(公告)号: CN104040687A 公开(公告)日: 2014-09-10
发明(设计)人: 崔虎燮;崔万秀 申请(专利权)人: 首尔大学校产学协力团;多次元能源系统研究集团
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027
代理公司: 深圳市顺天达专利商标代理有限公司 44217 代理人: 蔡晓红
地址: 韩国首尔冠*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明涉及使用穿孔图案掩模以纳米粒子组装三维结构的制造方法。本发明包括(1)通过在接地反应器中将具有宽度(w)的穿孔图案的掩模设置在将要刻图的衬底之上的一定距离(d)处,且在所述衬底上施加电压以形成电动聚焦透镜的步骤;和(2)将带电纳米粒子引入,并且引导所述带电纳米粒子通过所述穿孔图案到达衬底,使得所述带电纳米粒子以三维形状聚焦和吸附到所述衬底上的步骤。根据本发明,可以高精度和高效率制造具有不同形状的三维结构,且不会产生噪声图。
搜索关键词: 一种 纳米 粒子 组装 三维 结构 制造 方法
【主权项】:
一种纳米粒子组装三维结构的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:(i)在接地反应器中,将具有穿孔图案的掩模设置在将要刻图的衬底之上的一定距离处,所述穿孔图案与预定图案对应;然后在所述衬底上施加电压,以形成电动聚焦透镜;(ii)将带电纳米粒子引入所述反应器中,并且引导所述带电纳米粒子通过所述穿孔图案到达衬底,使得所述带电纳米粒子以三维形状选择地吸附到所述衬底上。
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