[发明专利]磁记录介质有效
| 申请号： | 201380004314.2 | 申请日： | 2013-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN103999156A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 内田真治 | 申请（专利权）人： | 富士电机株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/667 | 分类号： | G11B5/667 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 俞丹 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于能提供磁记录介质，其同时满足所需的SNR和EWAC特性，且能应对记录密度的上升。本发明的磁记录介质的特征在于，至少包含在中心有孔的圆盘状的非磁性基体、软磁性衬里层以及磁记录层，在软磁性衬里层中，在100MHz～700MHz的任意频率的磁场下的相对导磁率从圆盘外周到圆盘内周变高，且相对导磁率的特性频率从上述圆盘内周到上述圆盘外周变高。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 | ||
【主权项】：
一种磁记录介质，其至少包含：在中心有孔的圆盘状的非磁性基体、软磁性衬里层以及磁记录层，其特征在于，在所述软磁性衬里层中，在100MHz～700MHz的任意频率的磁场下的相对导磁率从圆盘外周到圆盘内周变高，且相对导磁率的特性频率从所述圆盘内周到所述圆盘外周变高。
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