[发明专利]用于蚀刻复杂图案的方法无效
| 申请号： | 201380004918.7 | 申请日： | 2013-01-03 |
| 公开（公告）号： | CN104039687A | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 伯纳德·迪姆 | 申请（专利权）人： | 法国原子能及替代能源委员会 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;H01L21/308 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 法国;FR |
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| 摘要： | 一种用于在基板的第一面中蚀刻所期望的复杂图案(50)的方法，包括以下步骤：穿过基板的第一面同时蚀刻至少第一和第二子图案，所蚀刻的子图案通过至少一个隔墙分开，在第一面，第一子图案的宽度大于第二子图案的宽度，并且沿与上述第一面垂直的方向，第一子图案的深度大于第二子图案的深度；移除或者消除上述隔墙以露出期望的复杂图案(50)的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 蚀刻 复杂 图案 方法 | ||
【主权项】：
一种用于在基板(10)的第一面(12)中蚀刻期望的复杂图案(20、30、40、50)的方法，包括以下步骤：穿过所述基板(10)的所述第一面(12)同时蚀刻至少第一和第二子图案，所蚀刻的子图案通过至少一个隔墙分开，在所述第一面(12)，所述第一子图案的宽度大于所述第二子图案的宽度，并且在与所述第一面(12)垂直的方向上，所述第一子图案的深度大于所述第二子图案的深度；移除或者消除所述隔墙以露出所期望的复杂图案(20、30、40、50)的步骤。
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