[发明专利]旋转基板处理系统

摘要

本发明提供一种用于处理多个基板的基板处理系统，且该基板处理系统大体包括至少一处理平台及至少一分段平台。每一基板定位于安置于基板支撑组件上的基板载具上。各自经配置以于其上载运基板的多个基板载具定位于基板支撑组件的表面上。处理平台及分段平台各自包括一单独的基板支撑组件，该基板支撑组件可通过一单独的旋转轨道机构旋转。每一旋转轨道机构能够支撑该基板支撑组件，且使由基板载具载运且安置于基板支撑组件上的多个基板连续旋转。每一基板因此经由至少一喷头站及至少一缓冲站而被处理，该至少一喷头站及该至少一缓冲站定位于处理平台的旋转轨道机构上方一距离处。每一基板可于处理平台与分段平台之间转移，且可转移进及转移出该基板处理系统。

主权项

一种处理腔室，所述处理腔室包含：多个气体分配组件，绕所述处理腔室隔开；在所述处理腔室内的基板支撑装置，所述基板支撑装置旋转以在所述多个气体分配组件中的每一者下方载运基板；以及一组第一处理站，介于所述多个气体分配组件中的每一者之间，这些第一处理站中的每一者提供相同类型的处理。