[发明专利]共聚焦检测装置有效
申请号: | 201380006127.8 | 申请日: | 2013-01-17 |
公开(公告)号: | CN104067090B | 公开(公告)日: | 2016-10-12 |
发明(设计)人: | 早川雅之;山下吉弘 | 申请(专利权)人: | 欧姆龙株式会社 |
主分类号: | G01C3/06 | 分类号: | G01C3/06;G01B11/00 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 董雅会;向勇 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及利用共聚焦光学系统对检测对象物(200)的位移进行检测的共聚焦检测装置。共聚焦检测装置具有:光源,出射多个波长的光;衍射透镜(1),使从光源出射的光沿着光轴方向产生色像差;检测部,按照波长检测通过衍射透镜(1)产生色像差的光中的在检测对象物(200)会聚的光的强度。另外,在共聚焦检测装置中,从光源入射至衍射透镜(1)的主光线(11b)相对于衍射透镜(1)的光轴(1a)偏离。 | ||
搜索关键词: | 聚焦 检测 装置 | ||
【主权项】:
一种共聚焦检测装置,利用共聚焦光学系统对检测对象物的位移进行检测,其特征在于,具有:光源,出射多个波长的光,衍射透镜,使从所述光源出射的光沿着光轴方向产生色像差,检测部,按照波长检测通过所述衍射透镜产生色像差的光中的在所述检测对象物会聚的光的强度,以及光纤,应用于从所述衍射透镜至所述光源及所述检测部为止的光路;所述光纤的端部相对于所述衍射透镜的光轴偏离,由此从所述光源入射至所述衍射透镜的主光线相对于所述衍射透镜的光轴偏离。
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