[发明专利]核成像系统无效
| 申请号： | 201380006475.5 | 申请日： | 2013-01-18 |
| 公开（公告）号： | CN104093360A | 公开（公告）日： | 2014-10-08 |
| 发明（设计）人： | B·施魏策尔;H·J·E·冯布施;C·里宾;A·格迪克 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/03 | 分类号： | A61B6/03;A61B6/00;G06T11/00;G01T1/161 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及用于对检查区域中的对象(3)进行成像的核成像系统(1)。多个X射线源(2)生成作为X射线辐射(5)的第一辐射，其中，所述X射线源被布置为使得所述X射线辐射指示所述对象的性质。探测单元(6)在来自核元素(8)的第二辐射(7)已穿过所述对象之后探测所述第二辐射(7)，并且探测由所述多个X射线源生成的所述第一辐射，由此固有地配准对所述第一辐射和所述第二辐射的所述探测。重建单元(9)基于探测到的第一辐射和探测到的第二辐射来重建所述对象的校正的核图像，其中，所述核图像在所述对象的所述性质方面被校正，并且由于所述固有的配准，而不包括因配准误差造成的图像伪影。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 | ||
【主权项】：
一种用于对检查区域中的对象进行成像的核成像系统，其中，所述核成像系统(1；101)包括：‑多个X射线源(2；102)，其用于生成作为X射线辐射的第一辐射(5；105)，所述X射线源(2；102)能够被布置为使得所述X射线辐射指示所述对象(3)的性质，‑探测单元(6；106)，其用于在来自核元素(8；108)的第二辐射(7；107)已穿过所述对象(3)之后探测所述第二辐射(7；107)，并且探测由所述多个X射线源(2；102)生成的所述第一辐射(5；105)，‑重建单元(9；109)，其用于基于探测到的第一辐射(5；105)和探测到的第二辐射(7；107)来重建所述对象(3)的校正的核图像，其中，所述核图像在所述对象(3)的所述性质方面被校正。
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