[发明专利]衬底保持器和制造衬底保持器的方法有效
| 申请号： | 201380007834.9 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN104081285B | 公开（公告）日： | 2017-06-13 |
| 发明（设计）人： | R·拉法雷;S·唐德斯;N·坦凯特;N·德齐奥姆基纳;Y·卡瑞德;E·罗登伯格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华,张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 用于光刻设备的对象保持器具有主体，该主体具有表面。在该表面上或在薄膜叠层的孔径中形成用于支撑对象的多个突节。通过激光烧结形成突节中的至少一个。通过激光烧结形成的突节中的至少一个可以是先前通过激光烧结或另一方法形成的损坏突节的修复。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 保持 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种制造用于在光刻设备中使用的对象保持器的方法，所述方法包括：提供具有平坦表面的主体；以及在所述平坦表面上形成多个突节，所述突节从所述平坦表面突出并且具有支撑对象的端表面，其中形成所述突节的至少一个突节的至少一部分包括激光烧结，并且所述至少一个突节包括第一材料的第一层和第二材料的第二层，所述第二材料不同于所述第一材料，并且所述至少一个突节形成有通过其高度的至少一部分在成分、含量或材料特性上的逐步变化。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380007834.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：充电辊
- 下一篇：液晶取向处理剂、液晶取向膜及液晶显示元件
