[发明专利]新型材料有效
| 申请号： | 201380008820.9 | 申请日： | 2013-02-08 |
| 公开（公告）号： | CN104093676B | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 琴·乔斯;托尼-泰迪·费尔南德斯;皮特-约翰·格兰特;阿尼姆什·贾;西卡·萨哈;大卫-保罗·斯廷森 | 申请（专利权）人： | 利兹大学 |
| 主分类号： | C03C23/00 | 分类号： | C03C23/00;C08J7/00;G02B6/12 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人： | 刘培培,胡杰 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种包括离子注入层，例如阳离子注入层的基板，其中，所述离子注入层的注入离子在比之前可能的深度明显更大的深度均匀分布。本发明还包括所述基板，其中所述基板是硅基基板，比如玻璃。本发明也可以包括将所述材料用作波导和/或将所述材料用于测量设备中。 | ||
| 搜索关键词： | 新型材料 | ||
【主权项】：
一种在基板中制造离子注入层的方法，所述方法包括：提供目标层；提供接近所述目标层的基板，其中所述基板与所述目标层隔开50mm～70mm的距离；并且在存在压力范围为80mTorr～90mTorr的气体的情况下，通过所述目标层和所述基板，将来自激光器的入射辐射引至所述目标层，从而以所述入射辐射烧烛所述目标层的材料，以从中产生包括能够注入所述基板中的离子的等离子体，籍此来自所述等离子体的离子注入所述基板中，使得所述注入的离子进入所述基板的基质中，而不是在所述基板的表面上形成膜，因此形成所述离子注入层，所述离子注入层延伸至所述基板中，从所述基板的表面延伸至至少50nm的渗透深度并且注入离子密度为每立方厘米至少1021个离子。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于利兹大学，未经利兹大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380008820.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：具有保留边缘的抑制噪声功能的图像处理器
- 下一篇：确定牙齿上的受力
