[发明专利]醇中的溶解氧去除装置及方法、醇供给装置及清洗液供给装置有效
申请号: | 201380010704.0 | 申请日: | 2013-02-01 |
公开(公告)号: | CN104136406B | 公开(公告)日: | 2016-10-19 |
发明(设计)人: | 村山雅美;菅原广;高桥一重 | 申请(专利权)人: | 奥加诺株式会社 |
主分类号: | C07C29/90 | 分类号: | C07C29/90;C07C31/10;H01L21/304 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 以简单的结构高效地去除醇中的溶解氧。醇中的溶解氧去除装置(5)是填充有吸收了氢的储氢金属催化剂(51)的溶解氧去除装置,通过使含有溶解氧的醇与储氢金属催化剂(51)相接触,从醇中去除溶解氧。醇中的溶解氧去除方法具有如下工序:使含有溶解氧的醇与吸收了氢的储氢金属催化剂(51)相接触,从醇中去除溶解氧。 | ||
搜索关键词: | 中的 溶解氧 去除 装置 方法 供给 清洗 | ||
【主权项】:
一种醇供给装置,其用于供给物品的清洗和干燥中的至少任意一项所使用的醇,该醇供给装置具有:溶解氧去除装置、和水分去除装置,该溶解氧去除装置填充有具有阴离子交换体的储氢金属催化剂,所述阴离子交换体负载了钯或铂,且在所述阴离子交换体中吸收了氢,通过使含有溶解氧的醇与所述储氢金属催化剂相接触,从而从所述醇中去除所述溶解氧,该水分去除装置位于所述溶解氧去除装置的后段,用于去除在所述溶解氧去除装置中去除所述溶解氧时所产生的水。
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