[发明专利]周期性图案检测装置及方法无效
| 申请号： | 201380011102.7 | 申请日： | 2013-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN104135932A | 公开（公告）日： | 2014-11-05 |
| 发明（设计）人： | 今井睦朗 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 熊传芳;苏卉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在照射场区域内还含有周期性图案难以检测的区域的情况下，能够精度良好地检测周期性图案。图像取得部(31)从放射线检测器(2)取得放射线图像(P0)，照射场区域检测部(32)从放射线图像(P0)检测照射场区域(P1)。解析区域设定部(33)检测直接放射线区域、高吸收体区域及高噪声区域作为周期性图案存在的可能性低的区域，从照射场区域(P1)中将这些区域排除，由此设定解析区域(P2)。频率解析部(34)仅对解析区域(P2)进行频率解析，检测由格栅引起的周期性图案的频率成分。滤波处理部(35)从放射线图像(P0)中将由格栅引起的周期性图案的频率成分除去。 | ||
| 搜索关键词： | 周期性 图案 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种周期性图案检测装置，其特征在于，具备：照射场区域检测单元，从通过使用照射场光圈及将放射线的散射成分除去的格栅进行摄影而取得的放射线图像，检测与所述照射场光圈对应的照射场区域；解析区域设定单元，将所述照射场区域中的由所述格栅引起的周期性图案存在的可能性低的区域排除，设定用于进行频率解析的解析区域；及频率解析单元，通过对所述解析区域进行频率解析，检测所述周期性图案的频率成分。
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