[发明专利]含有离子有机硅和成膜剂的个人护理组合物有效

专利信息
申请号: 201380011213.8 申请日: 2013-01-04
公开(公告)号: CN104136002B 公开(公告)日: 2017-11-24
发明(设计)人: A.萨卡;A.萨克塞纳;S.蒂瓦里;B.法尔克;A.杜索德 申请(专利权)人: 莫门蒂夫性能材料股份有限公司
主分类号: A61K8/899 分类号: A61K8/899;A61Q19/00;A61Q5/12;A61Q5/06;A61Q1/04;A61Q17/04;A61K8/896;A61K8/898
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 沈斌
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 个人护理组合物包括至少一种末端官能化的有机硅和至少一种成膜剂。
搜索关键词: 含有 离子 有机硅 成膜剂 个人 护理 组合
【主权项】:
个人护理组合物,包括至少一种末端官能化的离子有机硅和至少一种成膜剂,其中所述成膜剂是选自有机基硅氧烷树脂、烃聚合物、含有至少一个杂原子的烃聚合物、含氟原子的烃聚合物和粘土中的至少一种;所述有机基硅氧烷树脂含有R3SiO1/2、R2SiO、RSiO3/2、和SiO2单元的组合,各单元彼此之间的比例满足关系RnSiO(4‑n)/2,其中n为0至1.50的值,R独立地选自甲基、三氟甲基、亚苯基甲基和苯基;所述烃聚合物是选自聚丁烯、聚异丁烯、聚环戊二烯、凡士林和矿物油中的至少一种;所述含有至少一个杂原子的烃聚合物是选自聚乙烯吡咯烷酮(PVP)/二十烯共聚物、PVP/十六烯共聚物、丙烯酸酯共聚物和聚乙烯醇中的至少一种;以及所述粘土为选自改性粘土、未改性粘土、蒙脱土、LDH和斑脱土中的至少一种,其中所述末端官能化的离子有机硅具有下式:M1aM2bM3cD1dD2eD3fT1gT2hT3iQj  (I)其中:M1=R1R2R3SiO1/2M2=R4R5R6SiO1/2M3=R7R8R9SiO1/2D1=R10R11SiO2/2D2=R12R13SiO2/2D3=R14R15SiO2/2T1=R16SiO3/2T2=R17SiO3/2T3=R18SiO3/2Q=SiO4/2其中:R1、R2、R3、R5、R6、R8、R9、R10、R11、R13、R15和R16各自独立地为含有1至60个碳原子的脂族、芳族或含氟单价烃基团;R4、R12和R17各自独立地为带有离子对且具有式–A‑Ix‑Mny+的单价基团,或具有式‑R'‑N+(R)2‑R'‑I–的两性离子,其中A是具有至少1个间隔原子的间隔部分,所述间隔部分选自二价烃基团和烃氧基团,I是离子基团,选自 磺酸根、硫酸根、羧酸根和磷酸根,R'是含有1至20个碳原子的二价烃基团,R是含有1至20个碳原子的单价烃基团,R'是含有2至20个碳原子的二价烃基团,M各自独立地为氢或阳离子,所述阳离子独立地选自碱金属、碱土金属、过渡金属、季铵基团和鏻基团;R7、R14和R18各自独立地为‑CH2CH(R19)(CnH2n)‑O‑(C2H4O)o‑(C3H6O)p‑(C4H8O)q‑R19,其中R19为氢或如上所定义的R1基团;上标x和y为正整数,它们满足限制:x=ny;下标n各自独立地具有0至6的值,下标o、p和q各自独立地具有0至1000的值,它们满足限制:o+p+q≥1;和下标a、c、d、e、f、g、h、i和j各自独立地为0或正整数,它们满足限制:2≤a+b+c+d+e+f+g+h+i+j≤4500和b≥2。
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