[发明专利]混合式等离子体处理系统

摘要

本发明公开了一种混合式等离子体处理系统及其制造和操作方法。所述混合式等离子体处理系统包括用于在处理期间支撑衬底的由RF供电的下部电极以及以隔开的关系被设置在所述下部电极上方的混合式上部电极。所述混合式上部电极可以受到热控制并且包括由具有第一电阻率的第一材料形成的第一板、当中具有多个径向槽并且被设置在所述第一板上方的接地导电板。所述导电板由具有不同于所述第一电阻率的第二电阻率的第二材料形成。所述混合式上部电极还包括被设置在所述接地导电板上方的由RF供电的电感线圈。

主权项

一种等离子体处理系统，所述等离子体处理系统具有用于处理衬底的等离子体处理腔室，所述等离子体处理系统包括：第一RF电源；第二RF电源；用于在所述处理期间支撑所述衬底的下部电极，所述下部电极由所述第一RF电源供电；混合式上部电极，所述混合式上部电极以隔开的关系被设置在所述下部电极上方并且包括由具有第一电阻率的第一材料形成的第一板，当中具有多个径向槽的接地导电板，所述导电板与所述第一板相比被设置在相对于所述下部电极的更远处，所述导电板由具有低于所述第一电阻率的第二电阻率的第二材料形成，与所述接地导电板相比被设置在相对于所述下部电极的更远处的电感线圈，所述电感线圈由所述第二RF电源供电；其中所述第一板包括具有接缝的多个楔形件，所述接缝被配置成阻挡从所述腔室中产生的等离子体到所述接地导电板的视线。