[发明专利]光学玻璃及其利用在审
申请号: | 201380011271.0 | 申请日: | 2013-02-25 |
公开(公告)号: | CN104136388A | 公开(公告)日: | 2014-11-05 |
发明(设计)人: | 根岸智明;西川俊之 | 申请(专利权)人: | HOYA株式会社 |
主分类号: | C03C3/068 | 分类号: | C03C3/068;G02B1/02;G02B3/00 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 袁波;刘继富 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明的一个方式涉及光学玻璃,其为氧化物光学玻璃,其中,折射率nd在1.95~2.50的范围且阿贝数νd在18~40的范围,将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分,按阳离子%表示含有:1~30%的Si4+、1~50%的B3+(其中,Si4+及B3+合计为5~55%)、合计为11~70%的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中,La3+为10~50%)、以及合计为23~70%的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中,Nb5+为1%以上、Ti4+超过22%),Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比为0.60以下,W6+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比不足0.10。 | ||
搜索关键词: | 光学玻璃 及其 利用 | ||
【主权项】:
一种光学玻璃,其为氧化物玻璃,其中,折射率nd在1.95~2.50的范围且阿贝数νd在18~40的范围,将Si4+、B3+、La3+、Ti4+、Nb5+、以及Gd3+、Y3+及Yb3+的至少一种作为必要成分,按阳离子%表示含有:1~30%的Si4+、1~50%的B3+(其中,Si4+及B3+合计为5~55%)、合计为11~70%的La3+、Gd3+、Y3+及Yb3+(其中,La3+为10~50%)、以及合计为23~70%的Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+(其中,Nb5+为1%以上、Ti4+超过22%),Y3+的含量相对于Gd3+、Y3+及Yb3+的合计含量的阳离子比[Y3+/(Gd3++Y3++Yb3+)]为0.60以下,W6+的含量相对于Ti4+、Nb5+、Ta5+及W6+的合计含量的阳离子比[W6+/(Ti4++Nb5++Ta5++W6+)]不足0.10。
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