[发明专利]吸收性偏光片和制造该偏光片的方法无效
| 申请号： | 201380012950.X | 申请日： | 2013-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN104160307A | 公开（公告）日： | 2014-11-19 |
| 发明（设计）人： | 赵敏成 | 申请（专利权）人： | 东友精细化工有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京金信知识产权代理有限公司 11225 | 代理人： | 朱梅;李海明 |
| 地址： | 韩国全*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种吸收性偏光片及其制造方法。更具体地，本发明涉及一种吸收性偏光片，其包括在嵌段共聚物中的由第一嵌段和第二嵌段的分开排列而得到的用于吸收光的元件，并包括选择性地含有所述元件的复合物或该元件的氧化物的纳米颗粒的纳米复合层，因此，即使所述吸收性偏光片长时间暴露在高温和高湿的环境下仍是显著耐用的，并可以表现出相当于或高于拉伸工艺制造的吸收性偏光片表现出的偏振度和透射率，本发明还涉及一种能够容易地且以低成本地制造吸收性偏光片的生产方法。 | ||
| 搜索关键词： | 吸收性 偏光 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种吸收性偏光片，包括：纳米复合层，其中，包括光吸收元件或其氧化物或复合物的纳米颗粒选择性地包含在嵌段共聚物中，所述嵌段共聚物具有分别排列在其中的第一嵌段和第二嵌段。
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