[发明专利]用于试剂卡分析器的校准方法有效

专利信息
申请号: 201380013123.2 申请日: 2013-03-07
公开(公告)号: CN104160251B 公开(公告)日: 2018-03-30
发明(设计)人: C.T.齐默勒;A.泽尔彻尔;J.A.戈德斯堡 申请(专利权)人: 西门子医疗保健诊断公司
主分类号: G01J1/42 分类号: G01J1/42
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 马红梅,徐红燕
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于校准试剂分析器的成像器的方法,包括在成像器的视场中的第一读取位置处定位干燥试剂垫,第一读取位置被光照源以第一强度照亮;通过成像器检测参考光信号,参考光信号指示第一读取位置处的干燥试剂垫的第一反射率值;在第二读取位置处定位干燥试剂垫,第二读取位置以不同于第一强度的第二强度被照亮;通过成像器检测第一光信号,第一光信号指示第二读取位置处的干燥试剂垫的第二反射率值;以及通过处理器,基于参考光信号与第一光信号之间的差异,计算用于第二读取位置处的干燥试剂垫的校准因子。
搜索关键词: 用于 试剂 分析器 校准 方法
【主权项】:
一种用于校准试剂分析器的成像器的自动化方法,其包括:在成像器的视场中的第一读取位置处定位干燥试剂垫,第一读取位置被光照源以第一强度照亮;通过成像器检测参考光信号,参考光信号指示第一读取位置处的干燥试剂垫的第一反射率值;使干燥试剂垫前进通过成像器的视场中的第二读取位置;在第二读取位置处定位干燥试剂垫,第二读取位置以不同于第一强度的第二强度被照亮;通过成像器检测第一光信号,第一光信号指示第二读取位置处的干燥试剂垫的第二反射率值;以及通过施行处理器可执行代码的处理器,基于参考光信号与第一光信号之间的差异,计算用于第二读取位置处的干燥试剂垫的校准因子。
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