[发明专利]光刻仪器有效
| 申请号： | 201380013882.9 | 申请日： | 2013-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN104335121B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | K·巴尔;B·勒蒂克休斯;D·奥克维尔;A·范帕藤;H-K·尼恩海斯;M·伦德斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人： | 王茂华,郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种光刻仪器，其将气体注入掩模(MA)和掩模刀片(REB‑X，REB‑Y)之间，以保护掩模不受污染。气体可以被注入掩模和最近的一对掩模刀片之间限定的空间中，或者注入在两对掩模刀片之间限定的空间中。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 仪器 | ||
【主权项】：
一种光刻仪器，包括：照明系统，被配置为调节辐射束，支撑结构，被构造为支撑掩模，其中所述支撑结构包括用于接收所述掩模的部分；辐射束整形器件，其从用于接收所述掩模的所述部分隔开，其中所述辐射束整形器件是用于控制所述辐射束的尺寸的至少一个掩模遮蔽刀片，其中在未使用所述光刻仪器的情况下，在所述掩模不由所述支撑结构支撑时，在所述支撑结构的所述部分和所述辐射束整形器件的所述掩模遮蔽刀片之间定义封闭空间CS，和其中所述仪器还包括具有供气出口的至少一个供气装置，所述供气出口被定位为将气体供应到所述封闭空间并且被定向为朝向所述掩模使得在使用中在平行于所述掩模表面的方向上注入气体。
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