[发明专利]用于以水平激光进行原子层沉积的设备及工艺

摘要

在此提供的原子层沉积的设备与方法包含气体分配板材与至少一激光源，该激光源邻近该气体分配板材发射激光束，以活化来自该气体分配板材的气相物种。同样提供具有诸细长气体注入器端口的诸气体分配板材，其中沿着该等细长气体注入器的长度引导该至少一激光束。

主权项

一种沉积系统，包括：处理腔室；位于所述处理腔室中的气体分配板材，所述气体分配板材具有多个细长气体端口，以朝向基板的表面引导气流，以及至少一激光源，所述激光源发射激光束，所述激光束在所述气体分配板材与所述基板之间沿着所述细长气体端口的至少一端口被引导。