[发明专利]密封元件、优选为密封环有效
申请号: | 201380014207.8 | 申请日: | 2013-02-13 |
公开(公告)号: | CN104169619B | 公开(公告)日: | 2018-01-26 |
发明(设计)人: | H·马丁;M·鲍曼;T·布克 | 申请(专利权)人: | 杜尔系统有限责任公司 |
主分类号: | F16J15/10 | 分类号: | F16J15/10 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人: | 蔡胜利 |
地址: | 德国比梯海*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种密封元件,优选地为密封环,其配置为两个组件部分(B1,B2)之间密封,并且在槽(N)中被两个组件部分(B1,B2)压缩,其中槽(N)设置在两个组件部分(B1,B2)中一个之上,并且具有槽开口和槽底部(NG)。密封元件包括在未压缩状态下包括不同的轮廓高度(DH)的轮廓部(P),和至少两个外表面(10,20)。轮廓部(P)构造为在压缩状态下变形,以它随着它的数个侧部(SA1,SA2)中的至少一个延伸进入槽开口并且由此优选地部分封闭槽开口的方式。 | ||
搜索关键词: | 密封 元件 优选 | ||
【主权项】:
一种密封元件,用于涂装系统组件的密封元件,其中,密封元件适于在两个组件部分(B1,B2)之间密封并且适于在槽(N)中被两个组件部分(B1,B2)压缩,其中,槽(N)设置在两个组件部分(B1,B2)中的一个中,并且槽具有槽开口和槽底部(NG),所述密封元件具有‑轮廓部(P),其在未压缩状态下包括不同的轮廓高度(DH)和至少两个外表面(10,20),其中,‑轮廓部(P)构造为在压缩状态下变形,由此使得轮廓部以其至少一个侧部(SA1,SA2)延伸到槽开口中,其特征在于:‑在轮廓部(P)的未压缩状态下,所述至少两个外表面(10,20)的至少一个外表面设置有至少一个突出部(S1,S2),该突出部从所述外表面(10,20)上突出,所述至少一个突出部构造在所述外表面上,‑在轮廓部(P)的未压缩状态下,轮廓部(P)在所述至少一个突出部(S1,S2)的区域中具有轮廓高度,该轮廓高度小于最大轮廓高度(DHm),并且‑在轮廓部(P)的未压缩状态下,轮廓部(P)限定最大轮廓高度(DMm)的区域构造为相对于轮廓宽度偏离中心。
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