[发明专利]感光性树脂组合物及使用其的加工玻璃基板的制造方法、和触控面板及其制造方法在审
| 申请号： | 201380015589.6 | 申请日： | 2013-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN104204948A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 山口正利;高崎俊彦;杉本靖;富山健男;江尻贵子;山本和德;川口卓;濑里泰洋;佐藤真弓 | 申请（专利权）人： | 日立化成株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004;G03F7/075;G06F3/041 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 钟晶;於毓桢 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于形成作为利用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻时的掩模的抗蚀剂的感光性树脂组合物。该感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂以及(D)硅烷化合物，所述(B)光聚合性化合物包含(B1)具有不饱和基团和异氰脲酸环的化合物。 | ||
| 搜索关键词： | 感光性 树脂 组合 使用 加工 玻璃 制造 方法 面板 及其 | ||
【主权项】：
一种感光性树脂组合物，其为用于形成作为利用氢氟酸对玻璃基板进行蚀刻时的掩模的抗蚀剂的感光性树脂组合物，该感光性树脂组合物含有(A)粘合剂聚合物、(B)光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂以及(D)硅烷化合物，所述(B)光聚合性化合物包含(B1)具有不饱和基团和异氰脲酸环的化合物。
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