[发明专利]半导体装置及其制造方法有效
申请号: | 201380015809.5 | 申请日: | 2013-03-12 |
公开(公告)号: | CN104205314B | 公开(公告)日: | 2017-02-22 |
发明(设计)人: | 伊藤慎吾 | 申请(专利权)人: | 住友电木株式会社 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60;H01L21/56 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明的半导体装置具有搭载于基板的半导体元件;以铝为主要成分、设置于半导体元件的电极焊盘;将设置于基板的连接端子和电极焊盘连接、以铜为主要成分的铜线;和封装半导体元件和铜线的封装树脂。该半导体装置在大气中以200℃加热16小时时,在铜线与电极焊盘的接合部形成有含有选自钯和铂中的任意的金属的阻挡层。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种半导体装置,其特征在于,具有:搭载于基板的半导体元件;以铝为主要成分、设置于所述半导体元件的电极焊盘;将设置于所述基板的连接端子和所述电极焊盘连接、以铜为主要成分的铜线;和封装所述半导体元件和所述铜线的封装树脂,所述封装树脂的175℃的弹性模量为500MPa以上15000MPa以下,在大气中以200℃加热16小时时,在所述铜线与所述电极焊盘的接合部形成有含有选自钯和铂中的任意的金属的阻挡层;所述封装树脂是使环氧树脂组合物固化而得到的固化物,所述环氧树脂组合物使用含有选自下述式(1)所示的环氧树脂、下述式(2)所示的环氧树脂和下述式(3)所示的环氧树脂中的至少一种作为环氧树脂(A)的环氧树脂组合物,式(1)中,Ar1表示亚苯基或亚萘基,在Ar1为亚萘基时,缩水甘油醚基可以与α位、β位中的任意位置结合,Ar2表示亚苯基、亚联苯基和亚萘基中的任一个基团,R5和R6分别独立地表示碳原子数1~10的烃基,g为0~5的整数,h为0~8的整数,n3表示聚合度,其平均值为1~3,式(2)中,存在的多个R9分别独立地表示氢原子或碳原子数1~4的烃基,n5表示聚合度,其平均值为0~4,式(3)中,存在的多个R10和R11分别独立地表示氢原子或碳原子数1~4的烃基,n6表示聚合度,其平均值为0~4。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友电木株式会社,未经住友电木株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201380015809.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造