[发明专利]曝光描绘装置和曝光描绘方法有效
| 申请号： | 201380016100.7 | 申请日： | 2013-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN104185817A | 公开（公告）日： | 2014-12-03 |
| 发明（设计）人： | 桥口昭浩;菊池浩明;鹤井弘则 | 申请（专利权）人： | 株式会社阿迪泰克工程 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;H05K3/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 李亚;穆德骏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 具有：第1曝光单元，通过对载置在平台上的印刷布线基板的第1面进行曝光而在所述第1面上描绘电路图案；标记形成单元，设置为能够相对于平台相对地移动，在印刷布线基板的第1面上第1面用的电路图案的描绘处理中，在与第1面相反的第2面形成预先确定的多个标记；计测单元，对标记形成单元的位置进行计测；检测单元，对在第2面上形成的多个标记的位置进行检测；以及第2曝光单元，以所计测的标记形成单元的位置和所检测的多个标记的位置为基准，通过对印刷布线基板的第2面进行曝光而在第2面上描绘电路图案。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 描绘 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种曝光描绘装置，具有：第1曝光单元，通过对载置在平台上的印刷布线基板的第1面进行曝光而在所述第1面上描绘电路图案；标记形成单元，设置为能够相对于所述平台相对地移动，在所述印刷布线基板的所述第1面上第1面用的电路图案的描绘处理中，在与所述第1面相反的第2面形成预先确定的多个标记；计测单元，对所述标记形成单元的位置进行计测；检测单元，对由所述标记形成单元形成在所述印刷布线基板的所述第2面上的多个标记的位置进行检测；以及第2曝光单元，以由所述计测单元计测的所述标记形成单元的位置和由所述检测单元检测的所述多个标记的位置为基准，通过对所述印刷布线基板的所述第2面进行曝光而在所述第2面上描绘电路图案。
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