[发明专利]蚀刻组合物有效
| 申请号： | 201380016216.0 | 申请日： | 2013-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN104395502B | 公开（公告）日： | 2017-08-08 |
| 发明（设计）人： | 高桥和敬;水谷笃史;高桥智威 | 申请（专利权）人： | 富士胶片电子材料美国有限公司;富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C23F1/16 | 分类号： | C23F1/16 |
| 代理公司： | 北京市中伦律师事务所11410 | 代理人： | 贾媛媛 |
| 地址： | 美国罗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及含有约60％至约95％的至少一种磺酸；约0.005％至约0.04％的氯化物阴离子；约0.03％至约0.27％的溴化物阴离子；约0.1％至约20％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和约3％至约37％的水的蚀刻组合物。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 组合 | ||
【主权项】：
一种蚀刻组合物，包含：60重量％至95重量％的至少一种磺酸；0.005重量％至0.04重量％的氯化物阴离子；0.03重量％至0.27重量％的溴化物阴离子；0.1重量％至20重量％的硝酸盐或亚硝酰基离子；和3重量％至37重量％的水；其中所述组合物不含有氟离子。
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