[发明专利]用于基于磁共振的辐射治疗规划的质量保证装置和方法在审
| 申请号： | 201380016764.3 | 申请日： | 2013-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN104203102A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | D·L·福克塞尔;M·S·柯蒂斯;A·德瓦拉杰 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦有限公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00;A61B5/055;G01R33/58;A61N5/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 李光颖;王英 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于在基于磁共振的辐射治疗规划中使用的磁共振(MR)成像设备(23)的质量保证的系统(20)，所述系统(20)包括重量小于18.2kg(40lbs)的体模(10)。所述体模包括三维空间分布的MR和CT可成像元件(12)和MR和CT惰性外部支撑结构(16)，所述MR和CT可成像元件(12)位于MR和CT惰性泡沫支撑物(14)中，并且所述MR和CT惰性外部支撑结构(16)包围并且密封地封闭所述泡沫支撑物。所述空间分布被规定尺寸以完全填充所述磁共振成像设备的成像体积。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基于 磁共振 辐射 治疗 规划 质量保证 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于磁共振(MR)成像设备(23)的质量保证的系统(20)，包括：体模(10)，其重量小于18.2kg(40lbs)，并且包括：三维空间分布的MR和CT可成像元件(12)，其位于MR和CT惰性泡沫支撑物(14)中，所述空间分布被规定尺寸以完全填充所述磁共振成像设备的成像体积；以及MR和CT惰性外部支撑结构(16)，其包围并且密封地封闭所述泡沫支撑物。
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