[发明专利]薄膜图案形成方法有效
| 申请号： | 201380016813.3 | 申请日： | 2013-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN104206016B | 公开（公告）日： | 2018-08-24 |
| 发明（设计）人： | 工藤修二;水村通伸;梶山康一;哈尼·马赫·阿齐兹;梶山佳敬 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | H05B33/10 | 分类号： | H05B33/10;C23C14/04;C23C14/14;H01L51/50;H05B33/26 |
| 代理公司： | 北京市隆安律师事务所 11323 | 代理人： | 权鲜枝 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明是薄膜图案形成方法，在基板(1)的表面形成具有规定形状的薄膜图案(14)，基板(1)在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法构成为包含：使透射可见光的树脂制成的膜(2)紧贴在上述基板(1)上的步骤；对上述基板(1)上的薄膜图案形成区域(11)照射激光(L)，在上述膜(2)中形成与薄膜图案(14)相同形状的开口图案(21)的步骤；通过上述膜(2)的开口图案(21)，在上述基板(1)上的上述薄膜图案形成区域(11)形成薄膜图案(14)的步骤；以及剥离上述膜(2)的步骤。由此，能在电极预先形成于薄膜图案形成区域的基板的表面容易形成高精细的薄膜图案。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜图案形成方法，在基板的表面形成具有规定形状的薄膜图案，上述基板在薄膜图案形成区域预先形成有电极，上述薄膜图案形成方法的特征在于，包含：使透射可见光的树脂制成的膜紧贴在上述基板上的步骤；对上述基板上的薄膜图案形成区域照射激光，在上述膜中形成与薄膜图案相同形状的开口图案的步骤；在形成上述开口图案后，利用蚀刻或者激光从上述电极的表面除去杂质，进而通过离子碰撞处理从该电极的表面除去杂质，由此从上述电极的表面除去杂质的步骤；在从上述电极的表面除去杂质后通过上述膜的开口图案在上述电极上使电极材料成膜的步骤；通过上述膜的开口图案，在上述基板上的上述薄膜图案形成区域形成薄膜图案的步骤；在形成上述薄膜图案之后，通过上述膜的开口图案在该薄膜图案上使与上述电极相对的其它电极成膜的步骤；以及剥离上述膜的步骤。
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