[发明专利]光学相干层析成像设备以及光学相干层析成像方法在审
申请号: | 201380018304.4 | 申请日: | 2013-04-01 |
公开(公告)号: | CN104204775A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 太田健史 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01N21/17 | 分类号: | G01N21/17 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 宿小猛 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 光学相干层析成像设备包括光源单元,发射包括从具有不同的中心波长和部分重叠的输出光谱范围的扫频光源发射的光,光具有各自的输出光谱范围并且在时间上相互分离,分割单元,连接到所述光源单元并且将对所述光源单元发射的光进行分割,波长选择单元,连接到所述分割单元并且从输出光谱范围重叠的范围中选择具有预定波长的光,时间检测单元,连接到波长选择单元并且检测扫频光源以预定波长振荡的时间,以及波数检测单元,连接到所述分割单元并且检测来自扫频光源的光具有相同波数的时间。 | ||
搜索关键词: | 光学 相干 层析 成像 设备 以及 方法 | ||
【主权项】:
一种光学相干层析成像设备,包括:光源单元,包括多个扫频光源,每个扫频光源发射具有周期变化的振荡波长的光;干涉光学系统,将从光源单元发射的光分成基准光和用于照射分析物的照射光,并且使得来自分析物的反射光与基准光相互干涉,从而生成干涉光;光检测单元,检测所述干涉光;以及处理单元,基于通过所述光检测单元检测的所述干涉光的强度获得所述分析物的层析图像,其中,从所述光源单元发射的光包括从具有不同的中心波长和部分重叠的输出光谱范围的扫频光源发射的光,所述光具有各自的输出光谱范围并且在时间上相互分离,以及其中,所述光学相干层析成像设备进一步包括:分割单元,连接到所述光源单元,并且对所述光源单元发射的光进行分割;波长选择单元,连接到所述分割单元,并且从所述输出光谱范围重叠的范围中选择具有预定波长的光;时间检测单元,连接到波长选择单元,并且检测扫频光源以所述预定波长振荡的时间;以及波数检测单元,连接到所述分割单元,并且检测从扫频光源发射的光具有相同波数的时间。
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