[发明专利]电子照相用构件的生产方法和涂布液有效
申请号: | 201380018308.2 | 申请日: | 2013-03-15 |
公开(公告)号: | CN104204961A | 公开(公告)日: | 2014-12-10 |
发明(设计)人: | 铃村典子;土井孝之;益启贵;儿玉真隆;仓地雅大;黑田纪明 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G15/02 | 分类号: | G03G15/02;C08G59/30;C08G77/58;F16C13/00;G03G15/00 |
代理公司: | 北京魏启学律师事务所 11398 | 代理人: | 魏启学 |
地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供有助于形成高品质电子照相图像的电子照相用构件制造方法。具有导电性基体、弹性层和表面层的电子照相用构件的制造方法,其中,电子照相用构件的制造方法具有:第一步骤,在弹性层的表面上形成由用于形成表面层的涂布液制成的涂膜,该涂布液含有可水解硅烷化合物和由通式(2)表示的螯合钛化合物的水解缩合物;和第二步骤,引起水解缩合物中的环氧基断裂,由此引起水解缩合物交联并形成表面层。 | ||
搜索关键词: | 电子 照相 构件 生产 方法 涂布液 | ||
【主权项】:
一种电子照相用构件的生产方法,所述电子照相用构件包括导电性基体、弹性层和表面层,其特征在于,所述方法包括:第一步骤,在所述弹性层的表面上形成含有由以下通式(1)表示的可水解硅烷化合物和由以下通式(2)表示的螯合钛化合物的水解缩合物的表面层形成用涂布液的涂膜;和第二步骤,通过所述水解缩合物中的环氧基的断裂而使所述涂膜中的水解缩合物交联以形成所述表面层,通式(1)R1‑Si(OR2)(OR3)(OR4)通式(2)在通式(1)中,R1表示由以下通式(3)‑(6)的任意一种表示的烃基,和R2‑R4各自独立地表示烃基;在通式(2)中,R5和R6各自独立地表示具有1个以上且20个以下碳原子的直链或支链烷基,和R7‑R10各自独立地表示氢原子、具有1个以上且3个以下碳原子的烷基、或具有1个以上且3个以下碳原子的烷氧基;通式(3)通式(4)通式(5)通式(6)在通式(3)‑(6)中:R11‑R13、R16‑R18、R23、R24、R29和R30各自独立地表示氢原子、具有1个以上且4个以下碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基;R14、R15、R19‑R22、R27、R28和R33‑R36各自独立地表示氢原子或具有1个以上且4个以下碳原子的烷基;R25、R26、R31和R32各自独立地表示氢原子、具有1个以上且4个以下碳原子的烷氧基、或具有1个以上且4个以下碳原子的烷基;和n、m、l、q、s和t各自独立地表示1以上且8以下的整数,p和r各自独立地表示4以上且12以下的整数,和*表示与通式(1)中的硅原子的键合位置。
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