[发明专利]用于控制等离子体处理室中的等离子体的方法和装置

摘要

公开了用于控制具有至少一个电感耦合等离子体(ICP)处理室的等离子体处理系统中的等离子体的方法和装置。ICP室中至少使用第一/中心射频线圈、相对于第一/中心射频线圈同心地设置的第二/边缘射频线圈、和至少具有第三/中部射频线圈的射频线圈组，第三/中部射频线圈相对于第一/中心射频线圈和第二/边缘射频线圈以使第三/中部射频线圈被设置在第一/中心射频线圈与第二/边缘射频线圈之间的方式同心地设置。在处理期间，在相同方向上将射频电流提供给第一/中心射频线圈和第二/边缘射频线圈，同时在相反方向上(相对于提供给第一/中心射频线圈和第二/边缘射频线圈的电流的方向)将射频电流提供给第三/中部射频线圈。

主权项

一种至少具有用于处理衬底的等离子体处理室的等离子体处理系统，其包括：用于在所述处理期间件支撑所述衬底的工件固定器；设置在所述工件固定器上方的介电窗；设置在所述介电窗上方的第一射频线圈；相对于所述第一射频线圈同心地设置的第二射频线圈，所述第二射频线圈也被设置在所述介电窗的上方；和射频线圈组，其至少包括相对于所述第一射频线圈和所述第二射频线圈同心地设置的第三射频线圈，所述第三射频线圈被设置在所述第一射频线圈和所述第二射频线圈之间，其中提供给所述第一射频线圈的第一射频电流和提供给所述第二射频线圈的第二射频电流两者均是在第一方向上，并且提供给所述第三射频线圈的第三射频电流是在与所述第一方向相反的第二方向上。