[发明专利]可伸展电子装置及相关方法有效
| 申请号： | 201380019788.4 | 申请日： | 2013-01-28 |
| 公开（公告）号： | CN104488052A | 公开（公告）日： | 2015-04-01 |
| 发明（设计）人： | P·希拉拉尔;S·哈奎;D·科顿;C·鲍尔 | 申请（专利权）人： | 诺基亚公司 |
| 主分类号： | H01G11/24 | 分类号： | H01G11/24;H01M2/08;H01G11/86;H01G11/36;A41D1/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 酆迅 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 芬兰;FI |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种装置包括至少一个衬底(722、723)，至少一个衬底(722、723)包括第一电极(702)和第二电极(703)，并且被配置为形成使第一电极和第二电极(702、703)被包含在其中并且彼此面对的密封腔室，密封腔室包括在第一电极和第二电极(702、703)之间的空间中的电解质(701)，其中至少一个衬底(722、723)被配置为经受可逆伸展而仍然形成包含电解质(701)的密封腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 伸展 电子 装置 相关 方法 | ||
【主权项】：
一种装置，包括至少一个衬底，所述至少一个衬底包括第一电极和第二电极并且被配置为形成使所述第一电极和所述第二电极被包含在其中并且彼此面对的密封腔室，所述密封腔室包括在所述第一电极和所述第二电极之间的空间中的电解质，其中所述至少一个衬底被配置为经受可逆伸展而仍然形成包含所述电解质的所述密封腔室。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于诺基亚公司，未经诺基亚公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201380019788.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
