[发明专利]用于高分辨率电子束成像的设备及方法有效
| 申请号： | 201380025282.4 | 申请日： | 2013-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN104380427B | 公开（公告）日： | 2017-03-01 |
| 发明（设计）人： | 姜辛容;韩立群 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/22 | 分类号： | H01J37/22;H01J37/10;H01J37/147 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一个实施例涉及一种用于高分辨率电子束成像的设备。所述设备包含经配置以限制入射电子束中的电子的能量扩散的能量过滤器。所述能量过滤器可使用消像散维恩(Wien)过滤器及过滤器孔口而形成。另一实施例涉及一种形成用于高分辨率电子束设备的入射电子束的方法。另一实施例涉及一种包含弯曲导电电极的消像散维恩过滤器。另一实施例涉及一种包含一对磁轭及多极偏转器的消像散维恩过滤器。本发明还揭示其它实施例、方面及特征。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 高分辨率 电子束 成像 设备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于高分辨率电子束成像的设备，所述设备包括：源，其经配置以发射电子；枪透镜，其经配置以将来自所述源的所述电子聚焦到电子束中；限束孔口，其经配置以限制所述电子束中的电子的源发射角；能量过滤器，其经配置以限制所述电子束中的所述电子的能量扩散；物镜，其经配置以将能量经过滤的电子束聚焦到目标衬底的表面上的斑点上；及检测器，其经配置以检测来自所述目标衬底的所述表面的散射电子，其中所述能量过滤器包括能量相依偏转器，所述能量相依偏转器包括消像散维恩过滤器，以及所述消像散维恩过滤器进一步包括沿第一轴的第一对圆柱形弯曲导电板及沿第二轴的第二对圆柱形弯曲导电板。
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