[发明专利]热调节单元、光刻设备以及器件制造方法有效
| 申请号： | 201380025453.3 | 申请日： | 2013-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN104303109B | 公开（公告）日： | 2017-06-09 |
| 发明（设计）人： | J·H·W·雅各布斯;J·S·C·维斯特尔拉肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 吴敬莲 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种热调节单元(100)，用以热调节光刻设备中的衬底(W)，所述热调节单元包括热调节元件(200)，所述热调节元件包括第一层(210)、第二层(220)以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件(230)，第一层在使用时面对衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件(110)，所述加强构件比热调节元件硬并且配置成支撑热调节元件以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的。 | ||
| 搜索关键词： | 调节 单元 光刻 设备 以及 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种热调节单元，用于热调节光刻设备中的衬底，所述热调节单元包括：热调节元件，所述热调节元件包括第一层、第二层以及定位在第一层和第二层之间的热传递部件，所述第一层在使用时面对所述衬底并且包括具有100W/mK或更大的热导率的材料；和加强构件，所述加强构件比所述热调节元件硬，并且配置成支撑所述热调节元件、以便减小其机械变形，其中所述热调节元件与所述加强构件是热隔离的；其中所述热调节元件包括穿过其中的多个出口和/或入口，所述多个出口和/或入口分布在整个所述热调节元件上，以提供通过衬底下侧的一部分的气流作为气体轴承，以便在所述热调节元件上至少部分地支撑所述衬底。
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