[发明专利]测量装置、系统和方法

摘要

测量装置(120)包括光指向器和空间光调制器(130)。该光指向器设置为使光指向至空间光调制器(130)，以及空间光调制器(130)设置为接收并调制来自光指向器的光以形成一强度式样。一光学元件设置为接收形成该强度式样的光，并配置为将该强度式样放大至测量空间中。检测器(142)设置为检测反射自测量空间的光。

主权项

1.一种测量系统，包括：多个反射目标；以及至少一个测量装置，所述测量装置包括：光指向器和空间光调制器，其中光指向器设置为将光指向至空间光调制器，以及空间光调制器设置为接收并调制来自光指向器的光以形成一强度式样，其中空间光调制器为可编程的，从而该强度式样为可控的；第一光学元件，配置为在第一平面处形成由接收自空间光调制器的光的强度样式；第二光学元件，设置为接收形成该强度式样的光，并配置为将该强度式样放大至测量空间中；以及检测器，设置为检测从测量空间反射的光；其中，所述检测器为光电二极管形式；其中，光指向器配置为将回射光从测量空间指向至所述检测器，所述回射光包括来自针对于每个反射目标的测量路径的光，每个反射目标的测量路径不同；其中，光指向器配置为将来自参考路径的光指向至所述检测器，所述来自参考路径的光与来自每个测量路径的光干涉，生成一干涉信号；其中所述测量系统配置为测量距离；其中所述空间光调制器与所述第一光学元件之间的距离以及所述第一光学元件与所述第一平面之间的距离等于所述第一光学元件的焦距。