[发明专利]用于化学气相沉积的具有铁磁流体密封件的转盘反应器

摘要

一种用于化学汽相沉积的转盘反应器，其包括真空室和铁磁流体穿通件，该铁磁流体穿通件包括上部和下部铁磁流体密封件，马达轴通过该铁磁流体穿通件进入真空室中。马达联接至马达轴，并且定位在上部和下部铁磁流体密封件之间的大气区域中。转台定位在真空室中，并且联接至马达轴，从而马达按所需转速转动转台。介电支架联接至转台，从而转台当由轴驱动时转动介电支架。基片载体定位在用于化学汽相沉积处理的真空室中的介电支架上。加热器定位成靠近基片载体，该加热器将基片载体的温度控制到化学汽相沉积所需的温度。

主权项

一种用于化学气相沉积的转盘反应器，所述反应器包括：a)真空室；b)铁磁流体穿通件，马达轴通过所述铁磁流体穿通件进入真空室中，所述铁磁流体穿通件包括上部和下部铁磁流体密封件；c)马达，其定位在所述上部和下部铁磁流体密封件之间的大气区域中，所述马达联接至所述马达轴；d)转台，其定位在所述真空室中，并且联接至所述马达轴，从而所述马达按所需转速转动所述转台；e)介电支架，其联接至所述转台，从而所述转台当由所述轴驱动时转动所述介电支架；f)基片载体，其定位在所述介电支架上，所述基片载体在用于化学气相沉积处理的所述真空室中支承基片；以及g)加热器，其定位成靠近所述基片载体，所述加热器将所述基片载体的温度控制到化学气相沉积工艺过程所需的温度；其中，所述介电支架由一种材料形成，这种材料在被处理的基片与所述真空室中的冷区域之间形成隔热屏障。