[发明专利]用于冷却超导磁体的封闭制冷剂冷却系统和方法有效
申请号: | 201380026169.8 | 申请日: | 2013-04-24 |
公开(公告)号: | CN104334985B | 公开(公告)日: | 2017-03-08 |
发明(设计)人: | V.米克希夫 | 申请(专利权)人: | 西门子保健有限公司 |
主分类号: | F25D19/00 | 分类号: | F25D19/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所11105 | 代理人: | 曲莹 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于冷却超导磁体的制冷剂冷却系统,包括制冷剂容器(15),该制冷剂容器连接到与所述超导磁体热接触的冷却回路结构(13);再冷凝腔(16),该再冷凝腔布置成使得所述制冷剂容器的下部末端处于所述再冷凝腔(16)的下部末端之上;再冷凝致冷设备(20),该再冷凝致冷设备布置成再冷凝所述再冷凝腔(16)之内的制冷剂气体;以及加热器(24),该加热器定位成加热所述再冷凝腔(16)之内的气态制冷剂。再冷凝腔(16)通过制冷剂供给管(18)液力连接到所述制冷剂容器(15)。制冷剂供给管(18)的上端部暴露于制冷剂容器(15)内的制冷剂气体,而所述管(18)的下端部暴露于所述再冷凝腔(16)的内部、朝向其下部末端或在其下部末端处。 | ||
搜索关键词: | 用于 冷却 超导 磁体 封闭 制冷剂 冷却系统 方法 | ||
【主权项】:
一种用于冷却超导磁体的制冷剂冷却系统,包括:制冷剂容器(15),该制冷剂容器连接到与所述超导磁体热接触的冷却回路结构(13);再冷凝腔(16),该再冷凝腔布置成使得所述制冷剂容器的下部末端处于所述再冷凝腔(16)的下部末端之上;再冷凝致冷设备(20),该再冷凝致冷设备布置成再冷凝所述再冷凝腔(16)之内的制冷剂气体;以及加热器(24),该加热器定位成加热所述再冷凝腔(16)之内的气态制冷剂,其中,所述再冷凝腔(16)通过制冷剂供给管(18)液力连接到所述制冷剂容器(15),所述制冷剂供给管(18)的上端部暴露于制冷剂容器(15)内的制冷剂气体,而所述管(18)的下端部暴露于所述再冷凝腔(16)的内部、朝向其下部末端或在其下部末端处。
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