[发明专利]键控晶片载体

摘要

本发明提供一种用于化学气相沉积反应器的装置(10)，其理想地包括：具有内部区域(26)的反应室，安装在所述反应室内的主轴(30)，以及可释放地安装在所述主轴上以随之旋转的晶片载体(40)。所述主轴理想地具有沿着竖直旋转轴线(32)延伸的传动轴(36)以及从所述传动轴向外突出的键(80)。所述晶片载体(40)优选地具有限定了顶表面(41)和底表面(44)的主体(40a)以及至少一个构造来保持晶片(50)的晶片保持结构(43)。所述晶片载体(40)理想地还具有从所述底表面(44)延伸进入所述主体的凹部(47)，以及沿着所述横向轴线(106)从所述凹部的外围(104)向外突出的键槽(48)。所述传动轴(36)优选地接合在所述凹部(47)中并且所述键(80)优选地接合在所述键槽(48)中。

主权项

一种用于化学气相沉积反应器的装置，所述装置包括晶片载体，晶片载体具有：主体，其限定了朝向相反的顶表面和底表面，以及大体上垂直于所述顶表面和底表面的竖直旋转轴线；至少一个晶片保持结构，其构造成使得晶片能够保持在其中，同时晶片的表面暴露在主体的顶表面；凹部，其从所述主体的底表面延伸进入主体，所述凹部限定了外围；以及键槽，其沿着第一横向轴线从所述凹部的外围向外突出远离旋转轴线。